Geek & Gorgeous Calm down sanftes Peeling für das Gesicht, mit PHA und BHA Säuren, empfindliche Haut, 30 ml

Beruhigende Peeling-Lotion Calm Down von Geek & Gorgeous ist eine milde Peelingsäure-Lösung speziell für empfindliche Haut. Mit 3,2 % PHA und 0,8 % BHA bietet sie sanftes Peeling, spendet Feuchtigkeit und unterstützt antioxidativen Schutz. Die Formel hat einen pH-Wert von 3,5–3,9 und ist frei von Duftstoffen, ätherischen Ölen und Gluten; sie ist vegan, nicht an Tieren getestet und auch für Rosacea- und Rötungsneigung geeignet. Als besonders schonende Option eignet sie sich für Einsteiger in der Säurepflege sowie für Hauttypen, die bereits andere starke Wirkstoffe verwenden, wie Retinol. Die Lotion ist außerdem eine gute Sommeroption, da sie nicht photosensibilisierend wirkt. Die Textur ist wässrig und lässt sich per Toner-Anwendung oder direkt auf die Haut anwenden.

Eigenschaften

• 3,2 % PHA + 0,8 % BHA
• pH-Wert 3,5–3,9
• für empfindliche Haut geeignet
• duftfrei, ätherische Öle frei
• vegan, glutenfrei, tierversuchsfrei
• Malassezia-sicher (Pilzakne geeignet)

Anwendung & Inhaltsstoffe

Ideal als erster Schritt nach der Reinigung: Tragen Sie die Lösung wie einen Toner auf, entweder auf einem Wattepad oder Tupfen auf die gesamte Haut, Augen- und Lippenbereich aussparen. Danach warten, bis sie eingezogen ist, und Seren sowie Feuchtigkeitscreme auftragen.

Inhaltsstoffe: Wasser, Glycereth-26, Lactobionsäure (PHA), Gluconolacton, Propandiol, Salicylsäure (BHA), Panthenol, Glycerin, Opuntia Ficus-Indica-Extrakt, Saccharomyces Cerevisiae-Extrakt, Phragmites Kharka-Extrakt, Poria Cocos-Extrakt, Natriumhydroxid, Phenoxyethanol.

Wichtige Hinweise: Enthält Salicylsäure (BHA) und ist daher bei Aspirin-Allergie kontraindiziert. Im Sommer trotz allem Tageslichtschutz verwenden. Klinikangaben besagen, dass alle Inhaltsstoffe wissenschaftlich geprüft sind; Produkt ist sicher während der Schwangerschaft.

Achtung: Enthält Salicylsäure (BHA); nicht verwenden bei Aspirin-Allergie. Im Sommer täglich Sonnenschutz verwenden.