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SKIN1004 Madagascar Centella Porenverfeinernde Klärende Maske - 1 St.
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Beschreibung
Die SKIN1004 Madagascar Centella Poremizing Clarifying Mask ist eine tiefenreinigende Sheet-Maske, die vergrößerte Poren, überschüssiges Öl und eine unebene Hauttextur gezielt angeht. Sie ist ideal für ölige und zu Unreinheiten neigende Haut und beruhigt zugleich die Haut mit einer naturbasierten Formel. Die Maske passt sich den Gesichtskonturen perfekt an und sorgt so für eine tiefe Absorption der klärenden Wirkstoffe. Enthaltene Inhaltsstoffe wie Centella Asiatica Extrakt beruhigen gestresste Haut, reparieren sie und spenden Feuchtigkeit. Sanfte Peelingsubstanzen entfernen abgestorbene Hautzellen, befreien Poren von Verunreinigungen und regulieren den Talg ohne Reizungen. LHA und AHA verfeinern die Textur, während Panthenol die Hautbarriere stärkt. Benzoesäure hilft, den Feuchtigkeitshaushalt zu unterstützen und bietet antioxidativen Schutz. Nach der Anwendung hinterlässt die Maske ein erfrischendes, leicht straffendes Hautgefühl ohne Austrocknen.
Die Maske ist als Tiefenreinigung und Ausgleich formuliert, die Hautbarriere wird unterstützt und die Feuchtigkeit spürbar versorgt. Die Essenz spendet Feuchtigkeit, ohne klebrig zu wirken, und das Tuch passt sich elastisch und atmungsaktiv den Konturen der Haut an – für ein angenehmes, gleichmäßiges Auftragen.
Merkmale
- Verfeinert Poren und glättet Textur
- Reguliert Ölproduktion sanft
- Centella Asiatica beruhigt gestresste Haut
- Sanftes Peeling mit PHA, AHA, LHA
- Feuchtigkeit spendende Panthenol-Formel
- Elastisches, atmungsaktives Tuch
Anwendung
- Auf gereinigte Haut nach dem Toner auftragen.
- 10–20 Minuten einwirken lassen.
- Maske abnehmen und überschüssige Essenz sanft einklopfen.
- 2–3 Mal pro Woche oder nach Bedarf anwenden.
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Beschreibung
Die SKIN1004 Madagascar Centella Poremizing Clarifying Mask ist eine tiefenreinigende Sheet-Maske, die vergrößerte Poren, überschüssiges Öl und eine unebene Hauttextur gezielt angeht. Sie ist ideal für ölige und zu Unreinheiten neigende Haut und beruhigt zugleich die Haut mit einer naturbasierten Formel. Die Maske passt sich den Gesichtskonturen perfekt an und sorgt so für eine tiefe Absorption der klärenden Wirkstoffe. Enthaltene Inhaltsstoffe wie Centella Asiatica Extrakt beruhigen gestresste Haut, reparieren sie und spenden Feuchtigkeit. Sanfte Peelingsubstanzen entfernen abgestorbene Hautzellen, befreien Poren von Verunreinigungen und regulieren den Talg ohne Reizungen. LHA und AHA verfeinern die Textur, während Panthenol die Hautbarriere stärkt. Benzoesäure hilft, den Feuchtigkeitshaushalt zu unterstützen und bietet antioxidativen Schutz. Nach der Anwendung hinterlässt die Maske ein erfrischendes, leicht straffendes Hautgefühl ohne Austrocknen.
Die Maske ist als Tiefenreinigung und Ausgleich formuliert, die Hautbarriere wird unterstützt und die Feuchtigkeit spürbar versorgt. Die Essenz spendet Feuchtigkeit, ohne klebrig zu wirken, und das Tuch passt sich elastisch und atmungsaktiv den Konturen der Haut an – für ein angenehmes, gleichmäßiges Auftragen.
Merkmale
- Verfeinert Poren und glättet Textur
- Reguliert Ölproduktion sanft
- Centella Asiatica beruhigt gestresste Haut
- Sanftes Peeling mit PHA, AHA, LHA
- Feuchtigkeit spendende Panthenol-Formel
- Elastisches, atmungsaktives Tuch
Anwendung
- Auf gereinigte Haut nach dem Toner auftragen.
- 10–20 Minuten einwirken lassen.
- Maske abnehmen und überschüssige Essenz sanft einklopfen.
- 2–3 Mal pro Woche oder nach Bedarf anwenden.
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